Pengemasan Vakum Gr2 Titanium Sputtering Target 78.99OD * 45

Bahan Target Target Titanium Titanium Gr2 78.99OD * 45 Bahan Sputtering Pengemasan Vakum

Kemurnian adalah salah satu indeks kinerja utama dari bahan target, karena kemurnian bahan target memiliki pengaruh besar pada sifat-sifat film. Namun, dalam aplikasi praktis, persyaratan kemurnian bahan target juga berbeda. Pengotor dalam bahan padat dan oksigen dan uap air di pori-pori adalah sumber utama deposisi film. Untuk mengurangi porositas dalam padatan bahan target dan meningkatkan sifat film tergagap, bahan target biasanya diharuskan memiliki kerapatan yang lebih tinggi. Kepadatan bahan target tidak hanya mempengaruhi laju sputtering, tetapi juga sifat listrik dan optik film. Semakin tinggi kepadatan bahan target, semakin baik kinerja film. Selain itu, densitas dan kekuatan material target dapat ditingkatkan sehingga material target dapat lebih baik menahan tegangan termal pada proses sputtering. Kepadatan juga merupakan salah satu indeks kinerja utama dari bahan target.