Feiteng Magnetron Cr Sputtering Target OD127*ID458*10

Tempat asal Baoji, Shaanxi, Tiongkok
Nama merek Feiteng
Sertifikasi GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015; GJB9001C-2017
Nomor model Target tabung titanium
Kuantitas min Order Untuk dinegosiasikan
Harga To be negotiated
Kemasan rincian Paket vakum dalam kasus kayu
Waktu pengiriman Untuk dinegosiasikan
Syarat-syarat pembayaran T/T
Menyediakan kemampuan Untuk dinegosiasikan
Detail produk
Murni Murni> 3N5 Sertifikasi GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015; GJB9001C-2017
Brand name Feiteng Kemasan Paket vakum dalam kasus kayu
Nomor model Target pelat kromium Tempat asal Baoji, Shaanxi, Tiongkok
Ukuran 127*458*10
Cahaya Tinggi

Target Sputtering Feiteng Cr

,

Target Sputtering Magnetron Cr 127mm

,

target sputtering Magnetron 10mm

Tinggalkan pesan
Deskripsi Produk

Target Pelat Kromium Murni> 3N5 127 * 458 * 10 Target Sputtering Kromium

Nama barang

Target Pelat Kromium

Ukuran OD127*ID458*10
Murni Murni> 3N5
Kemasan Paket vakum dalam kasus kayu
Pelabuhan tempat Pelabuhan Xi'an, pelabuhan Beijing, pelabuhan Shanghai, pelabuhan Guangzhou, pelabuhan Shenzhen

Produk terkait

target sputtering magnetron
Target Putar
target putar ito
Target Putar Titanium
Target Putar Paket Vakum
target sputtering titanium
Target Pelapisan Vakum
Target Tabung Pelapis
bahan target sputtering
target tergagap

Kromium (Chromium), simbol kimia Cr, nomor atom 24, dalam tabel periodik termasuk dalam golongan B. Nama unsur berasal dari kata Yunani untuk "warna", karena senyawa kromium diwarnai.Logam abu-abu baja adalah logam yang paling keras di alam.Kromium, pada 0,01% di kerak bumi, menempati urutan ke-17.Kromium alami bebas sangat langka dan terjadi terutama pada bijih kromium-timbal.Dalam industri metalurgi, kromit terutama digunakan untuk menghasilkan paduan ferrokrom dan logam kromium.Kromium digunakan dalam baja tahan karat, suku cadang mobil, peralatan, pita dan kaset video.Berlapis krom pada logam bisa tahan karat, juga dikenal sebagai Cordometer, kuat dan indah.
Kromium adalah elemen jejak penting dalam tubuh manusia.Kromium trivalen adalah elemen yang sehat, sedangkan kromium heksavalen beracun.Tingkat penyerapan dan pemanfaatan kromium anorganik oleh tubuh manusia sangat rendah, kurang dari 1%.Tingkat pemanfaatan kromium organik tubuh manusia bisa mencapai 10-25%.Kandungan kromium dalam makanan alami rendah dan ada dalam bentuk trivalen.

 

Target pelapisan adalah sumber sputtering yang membentuk berbagai film fungsional pada substrat dengan sputtering magnetron, pelapisan ion multi-busur atau jenis sistem pelapisan lainnya di bawah kondisi teknologi yang sesuai.Sederhananya, bahan target adalah bahan target pemboman partikel bermuatan berkecepatan tinggi.Ketika digunakan dalam senjata laser berenergi tinggi, kepadatan daya yang berbeda, bentuk gelombang keluaran yang berbeda dan panjang gelombang laser yang berbeda berinteraksi dengan target yang berbeda, efek pembunuhan dan penghancuran yang berbeda akan dihasilkan.

1) Prinsip sputtering Magnetron:
Medan magnet ortogonal dan medan listrik ditambahkan antara tiang target (katoda) dan anoda yang tergagap, dan gas inert yang dibutuhkan (biasanya gas Ar) diisi dalam ruang vakum tinggi.Magnet permanen membentuk medan magnet 250 ~ 350 Gauss pada permukaan bahan target, yang membentuk medan elektromagnetik ortogonal dengan medan listrik tegangan tinggi.Di bawah aksi medan listrik, ionisasi gas Ar menjadi ion dan elektron positif, menargetkan dan memiliki tekanan negatif tertentu, dari aksi target dari medan magnet yang sangat terpengaruh dan peningkatan probabilitas ionisasi gas kerja, membentuk plasma densitas tinggi di dekat katoda, ion Ar di bawah aksi gaya lorentz, mempercepat untuk terbang ke permukaan target, membombardir permukaan target dengan kecepatan tinggi, Atom-atom yang tergagap pada target mengikuti prinsip konversi momentum dan terbang menjauh dari target dengan energi kinetik yang tinggi ke substrat untuk deposisi film.Magnetron sputtering umumnya dibagi menjadi dua jenis: DC sputtering dan rf sputtering.Prinsip peralatan sputtering DC sederhana, dan kecepatannya cepat saat sputtering logam.Rf sputtering lebih banyak digunakan, selain sputtering bahan konduktif, juga dapat sputtering bahan non-konduktif, tetapi juga sputtering reaktif untuk menyiapkan oksida, nitrogen dan karbida dan bahan senyawa lainnya.Jika frekuensi frekuensi radio ditingkatkan, itu menjadi sputtering plasma gelombang mikro.Sekarang, sputtering plasma gelombang mikro tipe electron cyclotron resonance (ECR) biasa digunakan.
2) Jenis target sputtering Magnetron:
Bahan target sputtering logam, bahan pelapis sputtering paduan pelapis, bahan pelapis sputtering keramik, bahan target sputtering keramik borida, bahan target sputtering keramik karbida, bahan target sputtering keramik fluoride, bahan target sputtering keramik nitrida, target keramik oksida, bahan target sputtering keramik selenide, bahan target sputtering keramik silisida, bahan target sputtering keramik sulfida, bahan target sputtering keramik telluride, Target keramik lainnya, target keramik silikon monoksida yang didoping krom (CR-SiO), target indium fosfat (InP), target arsenida timbal (PbAs), indium target arsenida (InAs).

 

Feiteng Magnetron Cr Sputtering Target OD127*ID458*10 0

 

Fitur

1. Kepadatan rendah dan kekuatan tinggi
2. Disesuaikan sesuai dengan gambar yang dibutuhkan oleh pelanggan
3. Ketahanan korosi yang kuat
4. Tahan panas yang kuat
5. Tahan suhu rendah
6. Tahan panas