OD380 * 23mm Target Titanium Tidak Beracun Nonmagnetik

Target Titanium Gr2 ASTM B381-06 a OD380*23 Sputtering Target Sputtering Material Target Sputtering

Target pelapisan adalah sumber sputtering yang membentuk berbagai film fungsional pada substrat dengan sputtering magnetron, pelapisan ion multi-busur atau jenis sistem pelapisan lainnya di bawah kondisi teknologi yang sesuai.Sederhananya, bahan target adalah bahan target pemboman partikel bermuatan berkecepatan tinggi.Ketika digunakan dalam senjata laser berenergi tinggi, kepadatan daya yang berbeda, bentuk gelombang keluaran yang berbeda dan panjang gelombang laser yang berbeda berinteraksi dengan target yang berbeda, efek pembunuhan dan penghancuran yang berbeda akan dihasilkan.Misalnya, pelapisan sputtering magnetron evaporatif adalah pelapisan penguapan yang dipanaskan, film aluminium, dll. Ubah bahan target yang berbeda (seperti aluminium, tembaga, baja tahan karat, titanium, target nikel, dll.), Bisa mendapatkan sistem film yang berbeda (seperti super keras , tahan aus, film paduan tahan korosi, dll.).

Dibandingkan dengan teknologi pelapisan basah, teknologi pelapisan vakum memiliki keunggulan sebagai berikut:
(1) film tipis dan substrat memiliki banyak pilihan bahan, dan ketebalan film dapat dikontrol untuk menyiapkan film fungsional dengan berbagai fungsi.
(2) untuk menyiapkan film tipis di bawah vakum, lingkungan bersih, dan film tipis tidak mudah terkontaminasi.Oleh karena itu, film dengan densifikasi yang baik, kemurnian tinggi dan lapisan yang seragam dapat diperoleh.
(3) kekuatan ikatan antara film dan substrat baik dan film kuat.
(4) pelapisan kering tidak menghasilkan limbah cair atau pencemaran lingkungan.
Teknologi pelapisan vakum terutama mencakup penguapan vakum, sputtering vakum, pelapisan ion vakum, deposisi sinar vakum, deposisi uap kimia dan sebagainya.Selain deposisi uap kimia, metode lain memiliki karakteristik umum sebagai berikut:
(1) semua jenis teknologi pelapisan memerlukan lingkungan vakum tertentu untuk memastikan pergerakan molekul uap yang terbentuk dalam proses penguapan atau percikan panas, tidak terkena, terhalang dan terganggu oleh sejumlah besar molekul gas di atmosfer, dan untuk menghilangkan efek berbahaya dari kotoran di atmosfer.
(2) semua teknologi pelapisan memerlukan sumber atau target untuk mengubah bahan film evaporasi menjadi gas.Karena peningkatan sumber atau target yang berkelanjutan, pilihan bahan pembuatan film telah sangat diperluas.Logam, paduan logam, senyawa intermetalik, keramik atau bahan organik dapat diuapkan dengan berbagai film logam dan film dielektrik, dan juga dapat diperoleh dengan menguapkan bahan yang berbeda secara bersamaan.
(3) bahan pembuatan film yang menguap atau tergagap dapat diukur dan dikontrol secara akurat dalam proses pembentukan film tipis dengan benda kerja yang akan dilapisi, untuk memastikan keseragaman ketebalan film.
(4) setiap film dapat secara akurat mengontrol komposisi dan fraksi massa gas sisa di ruang pelapis melalui katup penyesuaian halus, sehingga mencegah oksidasi bahan yang menguap, mengurangi fraksi massa oksigen hingga minimum dan mengisi gas inert , yang tidak mungkin untuk pelapisan basah.
(5) karena perbaikan terus-menerus dari peralatan pelapisan, proses pelapisan dapat diwujudkan secara terus menerus, sehingga sangat meningkatkan output produk dan tidak ada pencemaran lingkungan selama proses produksi.
(6) karena film dibuat dalam ruang hampa, kemurnian film tinggi, densitasnya bagus, dan permukaannya cerah tanpa pemrosesan.Hal ini membuat sifat mekanik dan kimia film lebih baik daripada film elektrodeposit dan film kimia.

1. Kepadatan Rendah dan Kekuatan Spesifikasi Tinggi
2. Ketahanan Korosi Yang Sangat Baik
3. Ketahanan yang Baik terhadap Efek Panas
4. Bantalan yang Sangat Baik untuk Properti Kriogenik
5. Nonmagnetik dan Tidak beracun
6. Sifat Termal Yang Baik
7. Modulus Elastisitas Rendah