Tabung Lapisan Vakum Niobium Mulus Target 155OD * 125ID * 2000mm

Target Tabung Niobium Target Pelapisan Vakum 155OD * 125ID * 2000 Tabung Mulus

Niobium kurang elektropositif daripada zirkonium, di sebelah kirinya.Ukuran atomnya hampir sama dengan tantalum di bawahnya, yang disebabkan oleh penyusutan lantanida.Ini membuat niobium secara kimiawi sangat mirip dengan tantalum.Meskipun tidak tahan terhadap korosi seperti tantalum, lebih murah dan lebih umum, sehingga tantalum sering digunakan sebagai alternatif dalam situasi yang kurang menuntut, seperti melapisi tangki kimia di pabrik kimia.
Niobium logam dapat dibuat dengan peleburan elektrolit kalium sevoflonobate, juga dapat dibuat dengan mereduksi kalium sevoflonobate dengan logam natrium atau mereduksi niobium pentaoksida dengan logam aluminium.Niobium murni digunakan untuk menghilangkan gas sisa dalam tabung elektron, dan doping niobium dalam baja dapat meningkatkan ketahanan oksidasi baja pada suhu tinggi dan meningkatkan kinerja pengelasan baja.Niobium juga digunakan untuk membuat cermet suhu tinggi.Penambahan niobium sebagai elemen paduan mikro tidak mengubah struktur besi, tetapi mengubah struktur mikro baja dengan menggabungkan dengan karbon nitrogen sulfur dalam baja.Efek penguatan niobium pada baja terutama penguatan butir halus dan penguatan dispersi, niobium dapat membentuk karbida dan karbonitrida yang stabil dengan karbon dan nitrogen dalam baja.Selain itu, karbida dapat didispersikan untuk membentuk baja dengan kristalisasi halus.

Target pelapisan adalah sumber sputtering yang membentuk berbagai film fungsional pada substrat dengan sputtering magnetron, pelapisan ion multi-busur atau jenis sistem pelapisan lainnya di bawah kondisi teknologi yang sesuai.Sederhananya, bahan target adalah bahan target pemboman partikel bermuatan berkecepatan tinggi.Ketika digunakan dalam senjata laser berenergi tinggi, kepadatan daya yang berbeda, bentuk gelombang keluaran yang berbeda dan panjang gelombang laser yang berbeda berinteraksi dengan target yang berbeda, efek pembunuhan dan penghancuran yang berbeda akan dihasilkan.Misalnya, pelapisan sputtering magnetron evaporatif adalah pelapisan penguapan yang dipanaskan, film aluminium, dll. Ubah bahan target yang berbeda (seperti aluminium, tembaga, baja tahan karat, titanium, target nikel, dll.), Bisa mendapatkan sistem film yang berbeda (seperti super keras , tahan aus, film paduan tahan korosi, dll.).

Fitur:
Volume kecil
Ringan
Ketahanan oksidasi suhu tinggi
Ketahanan korosi