Semua produk
Kontak Person :
Hang Ning
Nomor telepon :
+86 15009270259
Feiteng Dia 125MM Tabung Titanium Padat Menargetkan ASTM B861-06A
| Tempat asal | Baoji, Shaanxi, Tiongkok |
|---|---|
| Nama merek | Feiteng |
| Sertifikasi | GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015; GJB9001C-2017 |
| Nomor model | Target tabung titanium |
| Kuantitas min Order | Untuk dinegosiasikan |
| Harga | To be negotiated |
| Kemasan rincian | Paket vakum dalam kasus kayu |
| Waktu pengiriman | Untuk dinegosiasikan |
| Syarat-syarat pembayaran | T/T |
| Menyediakan kemampuan | Untuk dinegosiasikan |
Detail produk
| Tempat asal | Baoji, Shaanxi, Tiongkok | Brand name | Feiteng |
|---|---|---|---|
| Nomor model | Target tabung titanium | Kemasan | Paket vakum dalam kasus kayu |
| Spesifikasi | ASTM B861-06 | Nilai | gr2 |
| Sertifikasi | GB/T19001-2016 idt ISO9001:2015; GJB9001C-2017 | Ukuran | 133*φ125*2140 |
| Cahaya Tinggi | Target Tabung Titanium Padat Dia125MM,Target Tabung Titanium Padat Feiteng,Target Tabung Titanium ASTM B861-06A |
||
Deskripsi Produk
Target Tabung Titanium ASTM B861-06 a 133OD * 125ID * 2140L Target Pelapisan Vakum Titanium Gr2
| Nama barang |
Target tabung titanium |
| Ukuran | 133*φ125*2140 |
| Nilai | gr2 |
| Kemasan | Paket vakum dalam kasus kayu |
| Pelabuhan tempat | Pelabuhan Xi'an, pelabuhan Beijing, pelabuhan Shanghai, pelabuhan Guangzhou, pelabuhan Shenzhen |
Sifat-sifat titanium berkaitan erat dengan suhu, morfologi dan kemurnian.Titanium padat cukup stabil di alam, tetapi titanium bubuk dapat menyebabkan pembakaran spontan di udara.Kehadiran pengotor dalam titanium secara signifikan mempengaruhi sifat fisik, kimia, mekanik dan ketahanan korosi titanium.
Target pelapisan adalah sumber sputtering.Di bawah kondisi yang sesuai, berbagai film fungsional dibentuk pada substrat dengan sputtering magnetron, pelapisan ion multi busur atau jenis sistem pelapisan lainnya.Prinsip sputtering magnetron:
Medan magnet ortogonal dan medan listrik ditambahkan antara elektroda target sputtering (katoda) dan anoda, dan gas inert yang diperlukan (biasanya gas Ar) diisi di ruang vakum tinggi.Medan magnet 250~350 Gauss terbentuk pada permukaan target magnet permanen, membentuk medan elektromagnetik ortogonal dengan medan listrik tegangan tinggi.2) tipe target sputtering magnetron:
Target sputtering logam, target sputtering paduan pelapis, target sputtering keramik, target sputtering keramik borida, target sputtering keramik karbida, target sputtering keramik fluorida, target sputtering keramik nitrida, target keramik oksida, target sputtering keramik selenite, target sputtering keramik silisida, sputtering keramik sulfida target, target sputtering keramik telurium Target keramik lainnya, target keramik silika yang didoping krom (CR-SiO), target InP (InP), target arsenide timbal (PbAs), target indium arsenide (InAs).
Fitur
1. Kepadatan rendah dan kekuatan tinggi
2. Disesuaikan sesuai dengan gambar yang dibutuhkan oleh pelanggan
3. Ketahanan korosi yang kuat
4. Tahan panas yang kuat
5. Tahan suhu rendah
6. Tahan panas
Rekomendasi Produk