133mm * 125mm * 840mm Titanium Seamless Tube Target Ketahanan Korosi

Target Tabung Titanium Target Pelapisan Vakum 133OD * 125ID * 840 Tabung Mulus ASTM B861-06 a

Target pelapisan adalah sumber sputtering yang membentuk berbagai film fungsional pada substrat dengan sputtering magnetron, pelapisan ion multi-busur atau jenis sistem pelapisan lainnya di bawah kondisi teknologi yang sesuai.Sederhananya, bahan target adalah bahan target pemboman partikel bermuatan berkecepatan tinggi.Ketika digunakan dalam senjata laser berenergi tinggi, kepadatan daya yang berbeda, bentuk gelombang keluaran yang berbeda dan panjang gelombang laser yang berbeda berinteraksi dengan target yang berbeda, efek pembunuhan dan penghancuran yang berbeda akan dihasilkan.Misalnya, pelapisan sputtering magnetron evaporatif adalah pelapisan penguapan yang dipanaskan, film aluminium, dll. Ubah bahan target yang berbeda (seperti aluminium, tembaga, baja tahan karat, titanium, target nikel, dll.), Bisa mendapatkan sistem film yang berbeda (seperti super keras , film paduan anti-korosi, tahan aus, dll.)
Dalam beberapa tahun terakhir, layar panel datar (FPD) telah sangat mempengaruhi pasar monitor komputer dan TV yang didominasi oleh tabung sinar katoda (CRT), yang juga akan mendorong teknologi dan permintaan pasar bahan target ITO.Ada dua macam target iTO saat ini.Satu disinter dengan mencampurkan indium oksida dan bubuk timah oksida dalam keadaan nanometer, yang lain disinter dengan target paduan timah indium.Film ITO dapat dibuat dengan sputtering reaktif arus searah pada target paduan indium-timah, tetapi permukaan target akan teroksidasi dan laju sputtering akan terpengaruh, dan sulit untuk mendapatkan target emas ukuran besar.Saat ini, metode pertama umumnya diadopsi untuk menghasilkan bahan target ITO, menggunakan pelapis sputtering reaktif L}IRF.Ini memiliki tingkat deposisi yang cepat.Dan dapat secara akurat mengontrol ketebalan film, konduktivitas tinggi, konsistensi film yang baik, daya rekat yang kuat pada substrat dan keunggulan lainnya l.Tetapi membuat target sulit karena indium oksida dan timah oksida tidak mudah menyatu.Umumnya, ZrO2, Bi2O3 dan CeO digunakan sebagai aditif sintering, dan material target dengan densitas 93%~98% dari nilai teoritis dapat diperoleh.Kinerja film ITO yang dibentuk dengan cara ini sangat terkait dengan aditif.Ilmuwan Jepang menggunakan Bizo sebagai aditif, Dan Bi2O3 meleleh pada 820Cr, dan sebagian suhu sintering di luar L500 diuapkan, sehingga target ITO yang relatif murni dapat diperoleh dalam kondisi sintering fase cair.Dan bahan baku oksida belum tentu nanopartikel, yang dapat menyederhanakan proses awal.Resistivitas film ITO yang diperoleh dengan menggunakan target seperti Chuan adalah 8,1 ×10n-cm, yang mendekati resistivitas film ITO murni.Ukuran FPD dan kaca konduktif cukup panas, dan lebar kaca konduktif bahkan bisa mencapai 3133_.Untuk meningkatkan tingkat utilisasi target, telah dikembangkan target ITO berbagai bentuk, seperti silinder.Pada tahun 2000, Komisi Perencanaan Pembangunan Negara dan Kementerian Sains dan Teknologi memasukkan target besar ITO dalam Panduan Bidang Utama Industri Informasi dengan Prioritas untuk Pembangunan Saat Ini.

Fitur

1. Kepadatan rendah dan kekuatan tinggi
2. Disesuaikan sesuai dengan gambar yang dibutuhkan oleh pelanggan
3. Ketahanan korosi yang kuat
4. Tahan panas yang kuat
5. Tahan suhu rendah
6. Tahan panas